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極紫外光刻（EUV）在 AI 芯片制造中的工藝，展示一塊硅片正被精確圖案蝕刻，背景中有高科技 EUV 機(jī)器和激光束。

極紫外光刻（EUV）在 AI 芯片制造中的工藝，展示一塊硅片正被精確圖案蝕刻，背景中有高科技 EUV 機(jī)器和激光束。圖片
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AIGC極紫外光刻（EUV）在 AI 芯片制造中的工藝，展示一塊硅片正被精確圖案蝕刻，背景中有高科技 EUV 機(jī)器和激光束。
這張圖片展示了在 AI 芯片制造中，極紫外光刻（EUV）工藝的場(chǎng)景。一塊硅片正在接受精確的蝕刻，形成復(fù)雜的圖案。背景中高科技的 EUV 機(jī)器和激光束凸顯了這一制造過(guò)程的先進(jìn)與精密。此過(guò)程涉及半導(dǎo)體、微電子等領(lǐng)域，是工業(yè)工程中前沿創(chuàng)新的體現(xiàn)，融合了自動(dòng)化、高精度設(shè)計(jì)和復(fù)雜生產(chǎn)技術(shù)，展現(xiàn)了未來(lái)科技在硬件和電路組件制造方面的無(wú)限可能。
  • 素材ID：836719564
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  • 格式：JPG
  • 作者：Curioso.Photography
  • 最大分辨率：5632 x 3456px
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關(guān)鍵詞
未來(lái)派技術(shù)蝕刻機(jī)械錯(cuò)綜復(fù)雜精度電子工業(yè)工程自動(dòng)化制作制造業(yè)微電子學(xué)組件半導(dǎo)體設(shè)計(jì)技術(shù)創(chuàng)新生產(chǎn)復(fù)雜電路硬件

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