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極紫外光刻概念 - 極紫外光（EUV）和極紫外光刻（EUVL） - 3D 圖示

這是關于極紫外光刻概念（EUV 和 EUVL）的 3D 圖示。涉及芯片、中央處理器、微電子、硅晶圓等，涵蓋了如激光束、脈沖、生產、光學等技術，在計算機、電子設備、計算領域，與納米技術相關，涉及晶體管處理、集成電路制作等，旨在提升性能和分辨率。

關鍵詞

電源光學極端計算機計算系統加工電子脈沖離子電子激光綜合制作分辨率光刻紫外線微電子學專注晶體管梁硅晶圓設備技術微芯片光刻生產光學納米技術電路業績燈光芯片

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